IEMN
  • Accueil
  • Actualités
    • Newsletters de l’IEMN
    • Offres de Stages M2-Ingé
    • Les offres d’emplois
    • Toutes les actualités
  • L’Institut
    • Présentation
    • Organisation de l’institut
    • La Direction Scientifique
    • La Direction Technologique
    • La direction administrative et financière
    • Règlement intérieur
    • Nos engagements
  • La Recherche
    • Les départements scientifiques
      • Matériaux Nanostructures et Composants
      • Micro/nano et optoélectronique
      • Technologies des télécommunications et Systèmes intelligents
      • Acoustique
    • Les groupes de recherche
    • Les projets phares
  • Production Scientifique
    • Publications IEMN
    • Ressources production scientifique
  • Les plateformes
    • CMNF – Plateforme Centrale de Micro Nano Fabrication
      • Pôle Gravure et implantation
      • Pôle Analyse In Line
      • Pôle Soft Lithographie et Bio Microfluidique
      • Pôle Dépôts et épitaxie
      • Pôle Lithographie
      • Pôle Packaging
      • Staff CMNF
    • PCMP – Plateforme de Caractérisation Multi-Physique
      • Pôle Microscopie en Champ Proche (PCP)
      • Pôle Caractérisation Hyperfréquence, Optique et Photonique (CHOP)
      • Pôle Systèmes de COMmunications avancées et prototypage (SigmaCOM)
      • Pôle Caractérisation et Compatibilité ElectroMagnétique et prototypage (C2EM)
      • Staff PCMP
    • Prestations proposées par nos plateformes
  • Partenariat – Valorisation
    • Les Collaborations Académiques
    • Projets ANR
    • Principales collaborations internationales
    • Les partenariats industriels
    • Les laboratoires communs IEMN-Industrie
    • Les startups
  • La Formation à la Recherche
    • L’après-thèse
      • Faire un post-doc à l’IEMN
      • Vers le monde des entreprises et de l’industrie
      • Devenir Enseignant-Chercheur
      • Devenir Chercheur
      • Créer son entreprise à l’IEMN
      • FOCUS sur un ingénieur SATT issu de l’IEMN
    • Une thèse à l’IEMN
      • Soutenances de thèses et HDR
      • Sujets de thèses
      • Les financements
      • Les études doctorales
    • Master – Ingénieur
      • Masters ULille
        • Master Life Sciences and Technologies graduate program
        • Master Nanosciences and Nanotechnologies – Speciality ETECH
        • Master Réseaux et Télécommunications
      • Masters UPHF-INSA
        • Master Ingénierie des Systèmes embarqués et Communications Mobiles
        • Master Cyber-Défense et Sécurité de l’information
        • Master Matériaux, Contrôle, Sécurité
        • Master Ingénierie des Systèmes Images et Sons
      • Écoles Ingé partenaires/tutelles
      • Offres de Stages M2-Ingé
    • Le pôle lillois du GIP-CNFM
    • Nano-École Lille
  • Contact
    • Localisation
    • Formulaire de contact
    • Annuaire Intranet
  • Nos soutiens
  • en_GB
  • Rechercher
  • Menu Menu
CHOP : PÔLE CARACTERISATION HYPERFREQUENCE, OPTIQUE ET PHOTONIQUE
Slide thumbnailCHOP : PÔLE CARACTERISATION HYPERFREQUENCE, OPTIQUE ET PHOTONIQUE
CHOP : PÔLE CARACTERISATION HYPERFREQUENCE, OPTIQUE ET PHOTONIQUE

Pôle Caractérisation Hyperfréquence, Optique et Photonique (CHOP)

Depuis plus de 30 ans, différentes compétences et techniques expérimentales ont été développées au sein du pôle. Ses compétences s’appliquent sur une très grande variété de composants hyperfréquences passifs (antennes, MEMS …) et actifs (nanodispositifs, HBT sur InP, HEMT AsGa, InP, HEMT GaN et métamorphique AsGa, MOSFET Si …). Mais aussi, sur des dispositifs plus complexes intégrant des fonctionnalités (MMICs, amplificateur faible bruit, échantillonneur rapide…)

Domaines d’expertise :

Suivre un lien ajouté manuellement

Statique – Petit Signal – Bruit

Photonique microonde
Suivre un lien ajouté manuellement

Puissance

Nano caractérisation

Millimétrique et THZ

Spectroscopie

Mesures en Température

Le pôle CHOP certifié ISO8 regroupe sur 900m2 les moyens communs de l’IEMN permettant la caractérisation des principaux paramètres électriques de composants et sous-systèmes électroniques dans une large gamme de fréquences.

La plupart des bancs de mesures sont modulables afin de répondre au mieux aux besoins de la recherche. Les ingénieurs du pôle développent les bancs dans un souci d’amélioration continue afin de travailler en adéquation avec les innovations technologiques.

Le pôle permet la caractérisation électrique vectorielle ou scalaire de dispositifs ultra-rapides, transistors, circuits, MEMS…

  • Du DC aux fréquences THz
  • En température (mesures cryogénique, ambiant, 500 K)
  • Sous éclairement laser ou solaire
  • Sous pointes coplanaires (on-wafer), en coaxial ou espace libre
  • En régime non linéaire

Le couplage à des techniques de champ proche ou de spectroscopie permet la caractérisation :

  • De matériaux 2D
  • De micro-nano composants
  • De gaz, liquides, solides

Certaines expériences ont été conçues dans le but de tester électriquement les composants dans des conditions « rudes » telles qu’à basse température (5,5K) ou encore sous haute-tension (10kV).

L’expertise en caractérisation de dispositifs ultra rapides est reconnue internationalement et permet au pôle de jouer également un rôle très important dans les laboratoires communs (ST Microélectronics) et différents partenaires (THALES, CEA,… ) et divers centres de recherches régionaux, nationaux ou étrangers.

Organisation

L’équipe technique composée de trois ingénieur(e)s expérimenté(e)s dans le domaine de la caractérisation électriques et des mesures hautes fréquences, accueille plus de 22 groupes de recherche, soutient une start-up et différents projets de valorisation.

Le pôle CHOP fait partie du nouveau réseau de plateformes de caractérisation radiofréquence RF-Net du CNRS

Mots-clefs : Caractérisation électrique, Hyper-fréquences, micro-ondes, millimétriques, TeraHertz, matériaux 2D, nano-composants.

Contact :

Sophie.Eliet@univ-lille.fr

Tel : 03 20 19 79 30

Téléchargez la plaquette  (version 4 sept. 2024)

Publications du pôle CHOP

  • CMNF – Plateforme Centrale de Micro Nano Fabrication
    • Staff CMNF
    • Pôle Dépôts et épitaxie
      • Dépôts chimiques en phase vapeur (CVD)
      • Dépôts physiques en phase vapeur (PVD)
      • Impression jet d’encre
      • Traitements thermiques
      • Synthèse chimique et fonctionnalisation des surfaces
      • Croissance epitaxiale
    • Pôle Lithographie
      • Lithographie électronique
      • Lithographie optique
      • Lithographie laser 2D
      • Collage
    • Pôle Gravure et implantation
      • Gravures et traitements par plasmas
      • Gravure profonde du Silicium
      • Gravure chimique en phase vapeur
      • Gravure par faisceau ionique
      • Focused Ion Beam
      • Implantation ionique
      • Gravure humide et préparation de surface
    • Pôle Analyse In Line
      • Caractérisations structurales
      • Propriétés électriques
      • Propriétés optiques et spectroscopies
      • Microscopie Topographie Morphologie
      • Faisceau / beam
    • Pôle Soft Lithographie et Bio Microfluidique
      • Soft-Lithographie
      • BioMicroFluidique
    • Pôle Packaging
      • Mise en forme des puces et wafers
      • Assemblage de composants
      • Usinage de précision
  • PCMP – Plateforme de Caractérisation Multi-Physique
    • Staff PCMP
    • Pôle Microscopie en Champ Proche (PCP)
      • Domaine Air
      • Domaine UHV
    • Pôle Caractérisation Hyperfréquence, Optique et Photonique (CHOP)
      • Spectroscopie
      • Statique – Petit Signal – Bruit
      • Puissance
      • Nano caractérisation
      • MEMS
      • Photonique microonde
      • Millimétrique et THz
      • Mesures en Température
    • Pôle Caractérisation des Systèmes COMmunicants et prototypage (SigmaCOM)
      • Analog and digital communication systems
        • Energy efficiency test bench
        • Multifunctional analog and digital I/O devices
        • Software-defined radio
        • Telecom test bench
      • Optical communication systems
      • Prototypage (SigmaCom – C2EM)
        • Conception Modélisation
        • Programmation
        • Réalisations
        • Tests et Mesures
    • Pôle Caractérisation et Compatibilité ElectroMagnétique et prototypage (C2EM)
      • Chambre anéchoïque
      • Cellule TEM
      • Chambre réverbérante à brassage de modes
      • MaMIMOSA
      • Mesure Zt
  • Prestations proposées par nos plateformes
    • prestations de la plate-forme Bio Micro Fluidique
    • Prestations de la plate-forme CMNF
Logo
Cité Scientifique
Avenue Henri Poincaré
CS 60069
59 652 Villeneuve d'Ascq Cedex, France
Tel : 03 20 19 79 79
CNRS Logo University of Lille Logo University Polytech Logo Junia Logo Centrale Lille Logo Renatech Logo RFnet Logo
Plan du site
© Copyright Service ECM et pôle SISR 2024
  • Production scientifique
  • Mentions légales
  • Politique de confidentialité
Faire défiler vers le haut
fr_FR
fr_FR
en_GB
Nous utilisons des cookies pour vous garantir la meilleure expérience sur notre site web. Si vous continuez à utiliser ce site, nous supposerons que vous en êtes satisfait.OKNonPolitique de confidentialité