La gravure par faisceau d’ion (IBE) d’Ar permet la gravure de métaux et de matériaux très durs et constitue une technique très adaptée à la gravure superficielle (< 100 nm) et à forte résolution. Ce type de gravure couvre une gamme importante d'activités de R&D de l'IEMN. En outre faisceau d’Ar, le réacteur IBE dispose de 6 conduites de gaz qui nous permettront de rajouter des ions réactifs (RIBE) ou une composante chimique (fluore ou méthane) et travailler en mode CAIBE (Chemical Assistant Ion Beem Etching) ce qui donne la possibilité d’élargir la gamme de matériaux utiliser. La gravure par faisceaux d’ion peut être réaliser sous différents angle par rapport à la normale de l’échantillons, ce qui permet de contrôler l’angle des motifs graver. Le recteur est équipé d'un analyseur SIMS pour assurer un contrôle précis des processus de gravure. [/av_textblock] [av_textblock fold_type='' fold_height='' fold_more='Lire la suite' fold_less='Lire moins' fold_text_style='' fold_btn_align='' textblock_styling_align='' textblock_styling='' textblock_styling_gap='' textblock_styling_mobile='' size='' av-desktop-font-size='' av-medium-font-size='' av-small-font-size='' av-mini-font-size='' font_color='' color='' fold_overlay_color='' fold_text_color='' fold_btn_color='theme-color' fold_btn_bg_color='' fold_btn_font_color='' size-btn-text='' av-desktop-font-size-btn-text='' av-medium-font-size-btn-text='' av-small-font-size-btn-text='' av-mini-font-size-btn-text='' fold_timer='' z_index_fold='' id='' custom_class='' template_class='' av_uid='av-lxk5gavs' sc_version='1.0' admin_preview_bg='']

Contact: Giuseppe Di Gioia, Dmitri Yarekha