Croissance épitaxiale
Dépôts chimiques en phase vapeur (CVD)
Dépôts physiques en phase vapeur (PVD)
Impression jet d’encre
La centrale de micro nanofabrication offre une large palette de techniques de dépôts de couches minces permettant de couvrir une grande variété de propriétés des matériaux. Depuis plusieurs années, nous avons capitalisé un savoir faire dans de nombreux domaines tels que :
– les dépôts de matériaux pour le stockage de l’énergie en couches conformes atomiques ou minces
– la technologie silicium pour la microélectronique et les MEMS/NEMS
– les multicouches de matériaux magnétiques et multi-ferroïques nanostructurées
– les dépôts organiques pour les biosystèmes, l’électronique organique et moléculaire
– les dépôts métalliques servant à contacter les couches actives des composants de plusieurs filières (Si, III/V, III/N)
– la croissance et l’intégration de graphène monocouche ou multicouche dans les composants
– les dépôts localisés par impression jet d’encre pour la microélectronique flexible
Ces activités reposent sur un ensemble de techniques regroupées en grands domaines : les dépôts chimiques en phase vapeur, les dépôts physiques en phase vapeur, la synthèse chimique et fonctionnalisation des surfaces, l’impression jets d’encre, les traitements thermiques et l’épitaxie.
Contact Responsable dépôts – Isabelle ROCH-JEUNE
isabelle.roch-jeune
iemn.fr
Contact Responsable épitaxie – Christophe COINON
christophe.coinoniemn.fr
