Prix RAITH Micrograph Award pour le pôle Lithographie de l’IEMN
Saliha Ouendi a remporté, pour le Pôle Lithographie, le premier prix du concours « Raith Micrograph Award 2024 ». Ce prix distingue les plus belles images MEB de réalisations lithographiques effectuées à l’aide des équipements de la société allemande Raith, en l’occurrence ici un nanomasqueur EBPG5000Plus.
Les systèmes optiques traditionnels nécessitent plusieurs lentilles épaisses pour corriger l’aberration chromatique, ce qui accroît la taille, le poids et la complexité des dispositifs tels que les caméras, les microscopes ou les télescopes. Les métalentilles achromatiques permettent de remplacer ces empilements complexes par une seule couche mince, ouvrant ainsi la voie à des systèmes optiques plus compacts et plus légers.
Pour qu’une métalentille soit achromatique, il est essentiel que chaque méta-atome, unité constitutive fondamentale, présente une variation spécifique de sa réponse optique sur l’ensemble de la bande passante.
La métalentille réalisée, d’un diamètre de 1 mm, est conçue pour focaliser la lumière dans l’infrarouge moyen à une distance de 5 mm. Elle se compose de plus de 50 types de méta-atomes, chacun défini avec une géométrie précise de 3 microns, afin d’optimiser le comportement achromatique de l’ensemble.
L’image MEB primée représente des méta-atomes gravés dans le silicium sur une profondeur de 3,5 microns, une opération réalisée par Marc Faucher (IEMN) à partir de procédés plasmas développés pour la structuration de NEMS. Le design de cette métalentille a été élaboré par Adelin Patoux (CRHEA). Les étapes de lithographie, reposant sur l’utilisation de la résine HSQ, ont été prises en charge par le Pôle Lithographie.
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