Nouvel équipement de lithographie électronique de très haut niveau :
L’EBPG5200Plus (Raith)

As part of the CPER IMITECH et du PEPR Électronique – France 2030,

L’IEMN renforce ses capacités technologiques avec l’acquisition d’un nouvel équipement de lithographie électronique de très haut niveau : l’EBPG5200Plus (Raith).

Plus avancé que l’EBPG5000Plus déjà en service, cet outil de pointe accompagnera les projets de recherche de l’IEMN sur un large spectre de dispositifs, notamment micro-batteries, dispositifs neuromorphiques, capteurs MEMS/NEMS et technologies III-V, en réponse aux besoins actuels et futurs des chercheurs et des industriels.

Principaux atouts :
• précision de positionnement accrue
• réduction significative du stitching
• meilleure superposition des écritures (overlay)
• vitesse d’écriture augmentée
• champs d’écriture et tailles d’échantillons élargis
• exposition possible d’échantillons non planaires

Cet équipement ouvre de nouvelles perspectives scientifiques et applicatives, renforçant le positionnement de l’IEMN comme acteur majeur de la micro- et nano-fabrication avancée.