L’IEMN recrute
Un Enseignant/Chercheur – CEM et télécommunications et un Enseignant/Chercheur – Electronique performante à partir de matériaux 2D
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Un Enseignant/Chercheur – CEM et télécommunications et un Enseignant/Chercheur – Electronique performante à partir de matériaux 2D
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– « The NeaSNOM Microscope » – « Nano-FTIR: Infrared spectroscopic chemical identification of materials at nanoscale » by Dr. Andreas HUBER from Neaspec GmbH F. Huth1,2, A. Govyadinov2, S. Amarie1, W. Nuansing2, A.J. Huber1, F. Keilmann3, and R. Hillenbrand2,4. 1 Neaspec GmbH, Martinsried, Germany; 2 CIC Nanogune Consolider, Donostia-San Sebastian, Spain; 3 Dept. of Physics and CeNS, Ludwigs-Maximilians-Universität, […]
Pour la première fois, des chercheurs du LAAS et de l’IEMN construisent un transistor nanométrique véritablement en 3D. Les limites de miniaturisation des composants électroniques pourraient être plus éloignées que ce que l’on pensait. Une équipe du Laboratoire d’analyse et d’architecture des systèmes (LAAS–CNRS, Toulouse) et de l’Institut d’électronique, de microélectronique et de nanotechnologie (CNRS/Université […]
Projet Equipex LEAF : ‘Laser procEssing plAtform for multiFunctional electronics on Flex’ Kick-off Meeting Mercredi 20 Mars 2013 IEMN, Avenue Poincaré, Villeneuve d’Ascq, France Matinée ouverte au public (inscription obligatoire) AGENDA 9:30 Accueil (Hall de l’IEMN) 10:00 – 10h30 Présentation du projet EQUIPEX LEAF 10:30 – 11:10 Daniel BENSAHEL ( Manager advanced front-end materials) ST Microelectronics, Crolles […]
29/03/2013 – de 10h à 16h Le réseau de Recherches Technologiques de Base (RTB) est un réseau national de grandes centrales de micro- et nanofabrication. Ce réseau est à disposition de l’ensemble des communautés académiques et industrielles intéressées par les micro et nanotechnologies et vous invite à une journée d’informations et d’échanges sur les possibilités […]
La première démonstration de la fabrication de transistors de puissance en onde millimétrique de type HEMT AlGaN/GaN sur substrat silicium (110) hautement résistif a été réalisée à l’IEMN en collaboration avec le CRHEA [A. SOLTANI et al., IEEE Electron Device Letters, publié en ligne le 7mars 2013]. Usuellement, ces hétérostructures sont obtenus par épitaxie par […]
Paru dans le magazine « Industrie & Technologies » (Octobre 2012) : […]
Au nom de l’ensemble des personnels actuels et passés de l’IEMN, félicitation aux organisateurs pour le succès des 20 ans de notre laboratoire. Gilles Dambrine et Lionel Buchaillot
Lien vers l’article : http://phys.org/news/2012-01-team-photoelectrowetting-circuit.html