Atelier consacré à la préparation des substrats pour l’épitaxie
du 22 au 24 mai 2018 IEMN – Villeneuve d’Ascq Abstract : La préparation des substrats (nettoyage, rugosité de surface, désoxydation, structuration, etc…) est une étape importante pour la qualité des couches semiconductrices épitaxiées. Elle est devenue cruciale alors que les recherches actuelles s’orientent vers des sujets tels que l’hétéroépitaxie sur Silicium, l’épitaxie latérale […]





