Un matériau bidimensionnel à grande échelle
pour des applications neuromorphiques

Les matériaux de Mott sont des matériaux quantiques dont les propriétés de commutation résistive sont analogues à la réponse électrique des neurones biologiques. Un matériau de Mott bidimensionnel TaSe2, découvert récemment dans sa forme monocouche, a pu être fabriqué à l’IEMN par épitaxie sur un substrat industriel de phosphure de gallium (GaP). La continuité électrique du monofeuillet est attestée à l’échelle macroscopique, et la propriété de commutation résistive a été détectée à l’échelle nanométrique. Ce résultat ouvre des perspectives prometteuses en termes d’électronique à faible impact écologique et grande efficacité énergétique.

Les matériaux quantiques représentent une vaste classe de matériaux dans lesquels les fortes interactions entre électrons donnent lieu à des effets électroniques quantiques collectifs comme la supraconductivité, le magnétisme ou la commutation résistive.
Pour augmenter les interactions électroniques, on peut typiquement utiliser des matériaux où les atomes ont un grand nombre d’électrons de valence (métaux de transition), ou limiter la dimensionnalité du cristal pour confiner les électrons (matériaux 2D, 1D, points quantiques).
Les propriétés des matériaux quantiques sont à fort potentiel pour le développement de composants électroniques innovants. Notamment, la commutation résistive induite par impulsion électrique dans des matériaux appelés matériaux de Mott peut mimer certaines fonctions neuromorphiques : le changement d’état de résistance obtenu suite à une série d’impulsions électriques est analogue à la réponse d’un neurone biologique [1] .

L’un des enjeux actuels majeurs est d’intégrer ces matériaux à l’industrie microélectronique existante, à grande échelle, et basée sur des technologies spécifiques aux substrats silicium et semiconducteurs III-V tels que le GaAs ou le GaP. L’enjeu réside à la fois dans la fabrication et dans la maîtrise des propriétés électroniques de ces matériaux à grande échelle.
A l’IEMN, un bâti dédié à la synthèse de matériaux chalcogénures par épitaxie par jet moléculaire, installé en 2020, a permis de fabriquer des couches d’un matériau de Mott bidimensionnel découvert en 2021, 1T-TaSe2. Jusqu’ici, ce matériau bidimensionnel, difficile à fabriquer sous forme cristalline, avait été obtenu uniquement sur substrat métallique. Ces substrats réduisent considérablement les possibilités d’applications puisqu’ils court-circuitent le matériau actif. Dans ce contexte, le groupe EPIPHY a réussi à fabriquer des monocouches de TaSe2 sur un substrat semiconducteur III-V, le phosphure de gallium.  Ces couches ont fait l’objet d’une caractérisation multiéchelle par le groupe PHYSIQUE.

La qualité cristalline est attestée notamment par des mesures par microscopie tunnel. La structure cristalline attendue a été observée, tout comme la modulation électronique de type onde de densité de charge caractéristique de ce composé. De plus, un effet de Moiré entre le TaSe2 et le substrat de GaP est mis en évidence, qui atteste que la couche est bien une couche unique du matériau composé d’un atome Ta entre deux atomes Se.
La phase de Mott est à l’origine d’une bande interdite d’une centaine de milliélectronvolts, qui a été détectée à la fois à l’échelle nanométrique par spectroscopie tunnel, et par mesure de transport cryogénique. Cette étude bénéficie de l’acquisition en 2022 à l’IEMN d’un dispositif cryogénique permettant une caractérisation rapide des propriétés de transport électriques.
De façon générale, il est actuellement difficile d’obtenir des couches atomiques cristallines étendues, pourtant nécessaires à leur industrialisation. Les monocouches de 1T-TaSe2 présentent des propriétés électriques homogènes sur plusieurs millimètres. Enfin, nous avons observé une première signature d’un effet de commutation résistive sous l’effet du champ électrique, à l’échelle nanométrique. Ces résultats [2] ouvrent ainsi la voie à l’utilisation de ces couches atomiques de TaSe2 pour la réalisation à grande échelle de composants neuromorphiques ultracompacts.

Références
[1] Stoliar, P.; Tranchant, J.; Corraze, B.; Janod, E.; Besland, M.-P.; Tesler, F.; Rozenberg, M.; Cario, L. A Leaky-Integrate-and-Fire Neuron Analog Realized with a Mott Insulator. Adv. Funct. Mater. 2017, 27 (11), 1604740. https://doi.org/10.1002/adfm.201604740.

[2] Koussir, H.; Chernukha, Y.; Sthioul, C.; Haber, E.; Peric, N.; Biadala, L.; Capiod, P.; Berthe, M.; Lefebvre, I.; Wallart, X.; Grandidier, B.; Diener, P. Large-Area Epitaxial Mott Insulating 1T-TaSe2 Monolayer on GaP(111)B. Nano Lett. 2023. https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.3c02813.

Liens site web :
https://www.iemn.fr/la-recherche/les-groupes/epiphy
https://www.iemn.fr/la-recherche/les-groupes/physique