Les différentes étapes du procédé de fabrication seront développées et optimisées avec notamment :

• La réalisation de contacts ohmiques de faible résistance avec une technologie de contacts ohmiques alliés ou non alliés.
• L’isolation des composants par implantation ou par gravure.
• L’optimisation de l’étape de fabrication de grilles courtes inférieures à 100 nm.
• La passivation des composants par PECVD ou ALD. 

Les transistors seront ensuite caractérisés avec :

• Des mesures des caractéristiques I-V en courant continu pour extraire les paramètres usuels de fonctionnement des transistors tels que la densité maximale de courant, la tension de pincement, la transconductance, … Ces mesures seront nécessaires pour obtenir un retour d’information pour la croissance du matériau au CRHEA ainsi que pour l’adaptation du procédé technologique à IEMN.
• Des mesures en régime pulsé pour quantifier les phénomènes de piégeage (gate and drain lag)
• Des mesures hyperfréquences, telles que des mesures de paramètre S permettant de déterminer les performances RF des transistors.

Il doit avoir une bonne expérience de la technologie des composants en salle blanche et avoir mené à bien les différentes étapes technologiques inhérentes à la fabrication de dispositifs semiconducteur. Des compétences en termes de techniques de caractérisation électrique seront également appréciées.

Le candidat va travailler dans le cadre du projet d’excellence GaNEXT.

L’activité est majoritairement orientée vers un travail en salle blanche mais comprend également des mesures des dispositifs réalisés.

Le candidat aura une formation spécifique à la sécurité relative à la salle blanche et sera initié aux techniques particulières d’ordre technologique pour utiliser les différentes ressources disponibles.

• Assurer le support technique et scientifique des équipements gravures (DRIE, RIE, ICP)
• Assurer la maintenance de ces équipements.
• Mise au point des procédés de calibration.
• Maitrise des outils de fabrication de composants (lithographie, dépôts, gravure) ainsi que des moyens de caractérisation (Microscopie électronique, ellipsométrie, profilométrie, AFM, …)
• Assurer une veille technologique.

• Connaissance générale en Chimie et Sciences Physiques
• Connaissances en technique de fabrication (Gravure, Lithographie, Dépôts)
• Connaissances générales en instrumentation et en mesures physiques
• Connaissance des techniques du vide (vide primaire, vide secondaire)
• Manipulation des gaz sous pression
• Aptitude au travail en équipe et objectifs multi-projets
• Connaissance générale des règles d’hygiène et de sécurité
• Maitrise de la langue anglaise : expression et compréhension orales et écrites.

L’IEMN est un institut de recherche de 450 personnes. Son activité de recherche pluridisciplinaire couvre un large spectre allant de la physique du matériau jusqu’aux systèmes de télécommunication.

Ses activités de recherche s’appuient essentiellement sur cinq services techniques : la centrale de Micro et Nano Fabrication (CMNF), la plateforme de microscopie champ proche, la centrale de caractérisation électrique HF-MEMS (Micro-Electro-Mechanical-Systems), la plateforme télécom et la plateforme CEM (Compatibilité Electro Magnétique)

• Assurer le support technique et scientifique des équipements gravures (DRIE, RIE, ICP)
• Assurer la maintenance de ces équipements.
• Mise au point des procédés de calibration.
• Maitrise des outils de fabrication de composants (lithographie, dépôts, gravure) ainsi que des moyens de caractérisation (Microscopie électronique, ellipsométrie, profilométrie, AFM, …)
• Assurer une veille technologique.

• Connaissance générale en Chimie et Sciences Physiques
• Connaissances en technique de fabrication (Gravure, Lithographie, Dépôts)
• Connaissances générales en instrumentation et en mesures physiques
• Connaissance des techniques du vide (vide primaire, vide secondaire)
• Manipulation des gaz sous pression
• Aptitude au travail en équipe et objectifs multi-projets
• Connaissance générale des règles d’hygiène et de sécurité
• Maitrise de la langue anglaise : expression et compréhension orales et écrites.

L’IEMN est un institut de recherche de 450 personnes. Son activité de recherche pluridisciplinaire couvre un large spectre allant de la physique du matériau jusqu’aux systèmes de télécommunication.

Ses activités de recherche s’appuient essentiellement sur cinq services techniques : la centrale de Micro et Nano Fabrication (CMNF), la plateforme de microscopie champ proche, la centrale de caractérisation électrique HF-MEMS (Micro-Electro-Mechanical-Systems), la plateforme télécom et la plateforme CEM (Compatibilité Electro Magnétique)