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ACTUALITES

Ingénieur d’Etudes en lithographie électronique – Concours externe Université de Lille

Emploi type

B2D44 – Ingénieur d’Etudes en lithographie électronique – Concours externe CNRS / Ingénieur-e en élaboration de matériaux en couches minces
https://data.enseignementsup-recherche.gouv.fr/pages/referens/

Missions

Assurer le fonctionnement des équipements de lithographie électronique, ainsi que la formation et l’assistance aux utilisateurs.

Activités
  • Co-gérer deux appareils de lithographie électronique.
  • Assurer la formation et le soutien aux utilisateurs de ces équipements.
  • Planifier et contrôler l’utilisation des équipements
  • Développer et qualifier de nouveaux procédés de lithographie électronique.
  • Caractériser les résines électroniques et les résultats lithographiques (réflectométrie, ellipsométrie, MEB, …)
  • Participer à des projets de recherche internes et/ou externes
  • Diffuser et valoriser les procédés lithographiques (base de données, articles scientifiques, réseaux spécialisés…).
  • Gérer les maintenances élémentaires avec l’assistance à distance (hot line, remote) des ingénieurs de l’équipementier et/ou gérer leur intervention sur site.
  • Etablir un cahier des charges pour l’achat ou la jouvence d’équipements, et formaliser le processus d’achat et de réception, en lien avec l’administration
  • Exercer une veille technologique sur les matériels utilisés en lithographie électronique (ex : spray coater)
Compétences Connaissances

  • Connaissances générales de la physique, des sciences pour l’ingénieur.
  • Connaissances approfondies de la lithographie électronique (gestion des effets de proximité, CD) et de ses équipements.
  • Connaissances approfondies des résines utilisées en lithographie électronique (contraste, sensibilité, influence des pre- et post-bake)
  •  Connaissances approfondies des développeurs chimiques
  • Connaissances de base des procédés de micro- et de nano-fabrication transverses (gravure, dépôt, caractérisation).
  • Connaissances avancées de Linux, et des langages bash et python.
  • Techniques du vide
  • Travail en salle blanche
  • Règles d’hygiène et de sécurité
  • Langue anglaise : B2 minimum

Compétences opérationnelles

  • Mettre en oeuvre les techniques associées à la lithographie électronique
  • Valider et contrôler les conditions des expositions électroniques
  • Analyser les résultats
  • Résoudre des dysfonctionnements des équipements
  • Appliquer les techniques de maintenance des appareils
  • Utiliser les logiciels de traitement de données
  • Mettre en oeuvre une démarche qualité
  • Élaborer un cahier des charges
  • Rédiger des rapports ou des documents techniques
  • Faire des présentations orales
  • Assurer une veille scientifique et technique

Compétences comportementales

  • Capacité de décision à travailler en équipe et de façon autonom
  • Capacité à effectuer de la recherche bibliographiqu
  • Esprit d’initiative, d’analyse et de rigueur
Lieu d’exercice Institut d’Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie
(IEMN UMR 8520, Université de Lille, UPHF, CNRS,) Centrale de Micro Nano Fabrication (CMNF,)
Pôle Lithographie, localisé au Laboratoire Central de l’IEMN, avenue Poincaré, 59650 Villeneuve d’Ascq
CONDITIONS REGLEMENTAIRES : Voir l’article 26 du décret n° 85-1534 du 31 décembre 1985

  • conditions générales d’accès à la fonction publique (art. L321-1, L321-2 et L321-3 du Code général de la fonction publique),
  • aucune condition d’âge et de nationalité
  • être titulaire à la date de la première épreuve d’une licence ou d’un diplôme classé au moins au niveau 6 (anciennement niveau II).
  • les candidats non titulaires d’un des titres ou diplômes requis peuvent demander une équivalence au titre de leur expérience professionnelle. La demande d’équivalence à remplir est fournie avec le dossier de candidature.


Unité d’accueil :
IEMN UMR CNRS 8520
Avenue Poincaré
59652 VILLENEUVE D ASCQ CEDEX
www.iemn.fr

Corps :
Ingénieur d’études / BAP B / Catégorie A

Nature du concours :
Externe

INSCRIPTION SUR INTERNET :
Les inscriptions aux concours ITRF seront ouvertes du mardi 02 avril 2024 (12 heures, heure de Paris) au mardi 30 avril 2024 (12 heures, heure de Paris).

Pour tout complément d’information sur le poste, contactez Yves DEBLOCK
Fonction : Responsable Pôle Lithographie CMNF
Mail : yves.deblock@iemn.fr

Etablissement affectataire
Université de Lille
Responsable concours ITRF : EMILIE VERMEULEN
Tel : 03 62 26 95 53
emilie.vermeulen@univ-lille.fr

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Cité Scientifique
Avenue Henri Poincaré
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59 652 Villeneuve d'Ascq Cedex, France
Tel : 03 20 19 79 79
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