Une étude dans le cadre d’une collaboration entre l’IEMN et le Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems
fait la couverture du journal Analytical Methods (RSC) A user-friendly guide to the optimum ultraviolet photolithographic exposure and greyscale dose of SU-8 photoresist on common MEMS, microsystems, and microelectronics coatings and materials Matthieu Gaudet, Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems, Maria-Reiche-Str. 2, 01109 Dresden, Germany matthieu.gaudet@ipms.fraunhofer.de Steve Arscott, Institut d’Electronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN), […]





