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CMNF lithographie

Photothèque

La ressource lithographie représente un pilier dans la technologie de fabrication de nombreux composants fabriqués à l’IEMN et est donc en constante interaction avec les autres ressources de la centrale. Elle se compose d’un parc d’équipements complet réparti sur 3 salles. Une salle en lumière inactinique permet la préparation, l’enduction, les recuits, la révélation. Une deuxième salle permet l’insolation optique (UV ou deepUV) lié au collage (thermocompression ou anodisation) et la lithographie laser. Une salle est dédiée à la lithographie électronique.

Six tournettes avec détourage solvant spécifique permettent l’enduction d’un panel de plus de 50 variantes de résines optiques ou électroniques obtenues par dilution ou par distillation. Ces dernières permettent la réalisation de motifs microniques à submicroniques (UV, laser) et jusqu’à 10nm en lithographie électronique. Des recuits spécifiques (rampes programmées, recuits de proximité) sont également utilisés pour contrôler les contraintes ou adhérences des résines. Les équipements permettent de traiter des substrats allant de 4-5 mm jusqu’à 4 pouces dans une large gamme de matériaux (métaux, semiconducteurs, verre, polymères, substrats souples, céramiques…).

L’équipe lithographie a mis en place et mutualise des procédés standard et continue d’explorer de nouvelles résines ou procédés spécifiques permettant de débloquer des verrous technologiques. La grande majorité de la ressource est proposée en accès libre après une formation adéquate.

Contact: Francois Vaurette

PersonnelChristophe Boyaval, Yves Deblock, Marc François, Pascal Tilmant, Francois Vaurette

Mots clés: lithographie optique, UV, deep UV, lithographie électronique, lithographie laser, collage anodique ou thermique