Warning: array_multisort() [function.array-multisort]: Argument #1 is expected to be an array or a sort flag in /home/www-9099/www-exploit/data/wp-content/plugins/iemn-annuaire-plugin/classes/Annuaire.class.php on line 193

La centrale de micro nanofabrication offre une large palette de techniques de dépôts de couches minces permettant de couvrir une grande variété de propriétés des matériaux. Depuis plusieurs années, nous avons capitalisé un savoir faire dans de nombreux domaines tels que :

– les dépôts de matériaux pour l’énergie en couches conformes atomiques ou minces

– la technologie silicium utilisant des procédés de dépôts thermiques ou basse température

– les multicouches de matériaux magnétiques et multi-ferroïques nanostructurées

– les dépôts organiques pour les biosystèmes ou l’électronique organique et moléculaire

– les épaississements électrochimiques

– les dépôts métalliques servant à contacter les couches actives des composants de plusieurs filières (Si, III/V, III/N)

– la croissance et l’intégration de graphène monocouche ou multicouche dans les composants

– les dépôts localisés en écriture directe par impresion jet d’encre sur flexible

Ces activités reposent sur un ensemble de techniques regroupées en 4 domaines : les dépôts chimiques en phase vapeur, les dépôts physiques sous vide, les dépôts de couches minces organiques et les dépôts électrochimiques et impression jets d’encre.

 

Contact: Isabelle Roch Jeune, Responsable de Ressource « dépôts physiques »

PersonnelMarc Dewitte, Annie Fattorini, Elisabeth Galopin, Laurence Morgenroth, Saliha OuendiDavid Guerin, Isabelle Roch Jeune

Mots clés:  dépôts chimiques, dépôts physiques, couches minces, électrolyse, techniques alternatives, métallisations, diélectriques,…